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平面研磨机化学与电解化学抛光的不同

发表时间:2018-03-08 16:19作者:帝研科技

一、化学研磨抛光:将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中,靠化学能量自 然溶解金属表面,获得平滑光亮的表面。化学研磨仅仅是浸渍作业,操作简单;而电解研磨抛光需要大容量直流电,还要合理设  置电流对极,精确控制电流电压,操作工艺复杂,质量控制困难,有些特殊工件还不能处理。人们一直期待着更佳完善的研磨方法出现,虽然这期间出现了一些纯化学研磨抛光技术,但是与电解研磨方式相比,满足其光泽环保以及研磨效果等重要技术指标的产品一直没有出现。 用化学反应溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程

二、电解化学研磨抛光:将金属浸渍在各种成分组成的特殊化学溶液中,靠电流能量阳极溶解金属表面,获得平滑光亮的表面。 用电化学反应阳极溶解的方式将研磨工件表面变成平滑光亮面的过程,通过切削、塑性变形和磨耗等方式将研磨工件表面变成平滑光亮的过程,被研磨表面经过化学反应后生成一层保护膜,耐腐蚀性和耐磨性提高,光泽持久。同左  由于塑性变形的影响表面生成加工硬化层和晶格组织结构变化,耐腐蚀性和耐磨性减弱,容易再次氧化发乌,光泽不持久;被研磨表面凹凸平滑连续均匀,流动阻力小 。以上便是平面研磨机在采用两者进行研磨时不同之处。


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