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平面抛光机的抛光机理

发表时间:2018-02-28 16:08作者:帝研科技

帝研旗下的平面抛光机其机理应该分别是三种结合,因为在平面抛光机在工作过程时会化学作用、机械磨削、表面流动的理论。

1.化学作用理论。在抛光过程时,工件表面,抛光剂,抛光模和水的作用下,发复杂的化学过程。如,光学玻璃表面发生水解过程,或者硬脆性材料发生化学腐蚀过程。

2.机械磨削理论。抛光是继研磨之后的工作,其两者本质相关不大。都是通过尖硬的磨料颗粒对工件表面进行细微切削作用的结果。但抛光用的磨料对于研磨的磨料颗粒更加细微的抛光剂,微小的切削可以在分子大小范围内进行。抛光模与工件表面吻合相当,抛光时切向力较大,从而使工件表面凹凸的微裂结构被磨切掉,就形成了工件光滑的表面。

3.表面流量理论。工件表面由于高压和相对运动,摩擦生热致使表面产生塑性的流动,凸起部分会凹下部分填平,形成光滑的抛光表面。分别有两种理论:

(1)是根据抛光表面用金钢石划成图案,然后抛掉,而再用酸腐蚀后图案划痕再现。

(2)是由抛去厚度计算的抛去重量比实测的大得多,于是就认为抛光的质量填到表面凹凸层的谷部。由此说明流动作用的覆盖。

综上所述,抛光过程是极其复杂的,至今也没有完善统一的结论。以上据说的理论化学作用是必须的,而机械理论是基本的,表面流动理论也存在一定的可能性。


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