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平面抛光机电化学抛光的基本原理与特点

发表时间:2018-02-05 16:04作者:帝研科技
文章附图

平面抛光机在进行电化学抛光时,零件接直流电源的阳极,腐蚀材料如:不锈钢或者铝材等等,作为工具拉负极,将零件、工具放入电解液糟中,形成电路产生电流,阳极推动电子产生溶解现象,表面被不断蚀除,随着溶解的进行,在阳极表面会产生成黏度高、电阻大 氧化物薄膜,凸出处较薄,电阻较小,电流密度比凹处大,这样突出处先被溶解,从而降低表面粗糙度,来达到抛光的目的。其特点有以下几点:

1.电化学抛光效率高,抛光速度不受材料的软硬而受影响。

2.电化学抛光量很小,抛光后的民族尺寸精度和形状精度可控制在0.02MM以内。

3.工艺简单,操作容易,设备简单,成本小。

4.电化学抛光还能消除原表面的粗波纹,对工件表面基体粗糙度有要求一般在R1.6以下为最好。

相对来说,电解液、电流密度,电解液的温度,还有抛光时间、工件的组织状态等等这些都会对电化学抛光的质量会造成一定的影响。下一章我将继续讲述质量其抛光质量的因素都有那些。想了解更多知识可以收藏帝研科技官方网址,定期为您更多更多关于研磨方面资讯信息。


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